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BIO系列是生命科學(xué)版的無掩膜紫外光刻機(jī)，無掩膜光刻機(jī)具有更高的深寬比，能滿足生命科學(xué)領(lǐng)域的特殊需求。它主要用于制備像微流控芯片之類的具有特定需求的樣品 。在微流控芯片的制造過程中，其高深寬比和高靈活性的特點(diǎn)得以展現(xiàn)，可確保芯片的質(zhì)量和性能。這使得它成為生命科學(xué)研究和相關(guān)應(yīng)用中的重要工具。BIO 系列的出現(xiàn)為生命科學(xué)領(lǐng)域帶來了新的機(jī)遇。

Speed系列是高速版的無掩膜版紫外光刻機(jī)，其無掩膜光刻機(jī)配備了先進(jìn)的高速空間光調(diào)制器以及高功率紫外激光器。這一系列的光刻機(jī)不僅保證了高精度和高靈活性，更在這一基礎(chǔ)上，擁有了更高的光刻效率。其的性能特點(diǎn)使其特別適合小批量生產(chǎn)的場(chǎng)景。在該場(chǎng)景中，它能夠發(fā)揮出其高效的優(yōu)勢(shì)，為生產(chǎn)帶來更高的效率和更好的質(zhì)量。Speed 系列為相關(guān)產(chǎn)業(yè)提供了更優(yōu)質(zhì)的選擇，滿足了市場(chǎng)對(duì)于高效率、高質(zhì)量生產(chǎn)的需求

ACA系列是科研版的無掩膜版紫外光刻機(jī)，其基于空間光調(diào)制技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了數(shù)字掩膜光刻，靈活性使其成為科學(xué)研究。設(shè)備搭載長(zhǎng)壽命、高功率的紫外光源，設(shè)備穩(wěn)定，上手簡(jiǎn)單。其的原位光繪和交互式套刻指引功能，讓光刻和套刻更加容易和精準(zhǔn)。ACA系列設(shè)備為科研工作提供了強(qiáng)大的支持，助力科學(xué)研究領(lǐng)域的發(fā)展和創(chuàng)新。

ULTRA激光掩模光刻機(jī) 是專門用于成熟半導(dǎo)體光掩模的合格激光掩模機(jī)。半導(dǎo)體光掩模用于制造電子設(shè)備，包括微控制器、電源管理、LED、物聯(lián)網(wǎng) （IoT） 和 MEMS。 ULTRA 是一種經(jīng)濟(jì)型光刻機(jī)解決方案，具有高吞吐量、精度和結(jié)構(gòu)均勻性以及極其精確的對(duì)準(zhǔn)所需的所有特性和功能。標(biāo)準(zhǔn)配置包括全自動(dòng)掩模處理、Zerodur® 平臺(tái)、低失真光學(xué)元件和高精度位置控制等功能。

PG 300 DI 是一款體積圖案發(fā)生器，專為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結(jié)構(gòu)而設(shè)計(jì)。它源自掩模制作工具，具有所有先進(jìn)的 VPG 系統(tǒng)組件，能夠以最高的精度和準(zhǔn)確度進(jìn)行書寫。最大寫入?yún)^(qū)域覆蓋 300 mm 晶圓。 VPG 300 DI 系統(tǒng)的目標(biāo)用途主要是學(xué)術(shù)和工業(yè)研究與開發(fā)，這些領(lǐng)域需要高靈活性和小于 2 μm 的特性。該系統(tǒng)可滿足各種應(yīng)用的需求，包括產(chǎn)品原型制作、MEMS、與其他工具的

VPG 200 / VPG 400 體積圖形發(fā)生器是光刻系統(tǒng)，專為 i-line 光刻膠的多用途掩模制造而設(shè)計(jì)。它們支持所有標(biāo)準(zhǔn)的中小型面罩尺寸，最大尺寸為 410 x 410 mm++2.應(yīng)用包括 MEMS 掩模制造、先進(jìn)封裝、3D 集成、LED 和 OLED 掩模以及微流體。 VPG 具有經(jīng)過現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證的超高速曝光引擎和高功率 DPSS 激光器。其技術(shù)將高分辨率、準(zhǔn)確性和出色的圖像質(zhì)量與高吞吐