當(dāng)前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備 > 1 光刻設(shè)備 > UV Litho-ACA無掩膜光刻機(jī)
簡要描述:ACA系列是科研版的無掩膜版紫外光刻機(jī),其基于空間光調(diào)制技術(shù),實(shí)現(xiàn)了數(shù)字掩膜光刻,靈活性使其成為科學(xué)研究。設(shè)備搭載長壽命、高功率的紫外光源,設(shè)備穩(wěn)定,上手簡單。其的原位光繪和交互式套刻指引功能,讓光刻和套刻更加容易和精準(zhǔn)。ACA系列設(shè)備為科研工作提供了強(qiáng)大的支持,助力科學(xué)研究領(lǐng)域的發(fā)展和創(chuàng)新。
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1. 產(chǎn)品概述
ACA無掩膜光刻機(jī)系列是科研版的無掩膜版紫外光刻機(jī),其基于空間光調(diào)制技術(shù),實(shí)現(xiàn)了數(shù)字掩膜光刻,靈活性使其成為科學(xué)研究。設(shè)備搭載長壽命、高功率的紫外光源,設(shè)備穩(wěn)定,上手簡單。其的原位光繪和交互式套刻指引功能,讓光刻和套刻更加容易和精準(zhǔn)。ACA系列設(shè)備為科研工作提供了強(qiáng)大的支持,助力科學(xué)研究域的發(fā)展和創(chuàng)新。
2. 特色參數(shù)
特征尺寸0.8μm
6英寸光刻面積
高精度步進(jìn)光刻
無掩膜光刻機(jī)
3. 應(yīng)用案例
微流道芯片
二維材料電
光學(xué)掩膜版
MEMS器件
灰度光刻
4. 公司簡介:
托托科技(蘇州)有限公司是一家注于顯微光學(xué)加工和顯微光學(xué)檢測域的公司,在基于數(shù)字微鏡器件的無掩膜光刻技術(shù)域中進(jìn)行了數(shù)年的深入研究和技術(shù)積累,其研制和生產(chǎn)的無掩膜紫外光刻機(jī)一經(jīng)問世,就受到了諸多客戶的青睞,在科研和工業(yè)域都有廣泛的應(yīng)用。例如,在微納加工域,可以用于制作MEMS器件、微流控芯片、微型傳感器等;在光電子域,可以用于制作光柵、衍射光學(xué)元件等。
托托科技致力于設(shè)備底層技術(shù)的研究和積累,不斷尋求技術(shù)的突破,努力為客戶帶來更好的設(shè)備和更好的使用體驗(yàn),幫助客戶創(chuàng)造更高的價值。
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