當(dāng)前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備 > 1 光刻設(shè)備 > UV Litho-S無掩膜光刻機(jī)
簡要描述:Speed系列是高速版的無掩膜版紫外光刻機(jī),其無掩膜光刻機(jī)配備了先進(jìn)的高速空間光調(diào)制器以及高功率紫外激光器。這一系列的光刻機(jī)不僅保證了高精度和高靈活性,更在這一基礎(chǔ)上,擁有了更高的光刻效率。其的性能特點(diǎn)使其特別適合小批量生產(chǎn)的場景。在該場景中,它能夠發(fā)揮出其高效的優(yōu)勢,為生產(chǎn)帶來更高的效率和更好的質(zhì)量。Speed 系列為相關(guān)產(chǎn)業(yè)提供了更優(yōu)質(zhì)的選擇,滿足了市場對于高效率、高質(zhì)量生產(chǎn)的需求
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1. 產(chǎn)品概述:
Speed系列是高速版的無掩膜版紫外光刻機(jī),其配備了先進(jìn)的高速空間光調(diào)制器以及高功率紫外激光器。這一系列的光刻機(jī)不僅保證了高精度和高靈活性,更在這一基礎(chǔ)上,擁有了更高的光刻效率。其的性能特點(diǎn)使其特別適合小批量生產(chǎn)的場景。在該場景中,它能夠發(fā)揮出其高效的優(yōu)勢,為生產(chǎn)帶來更高的效率和更好的質(zhì)量。Speed 系列為相關(guān)產(chǎn)業(yè)提供了更優(yōu)質(zhì)的選擇,滿足了市場對于高效率、高質(zhì)量生產(chǎn)的需求。二維材料電
光學(xué)掩膜版
MEMS器件
灰度光刻
微流道芯片
特征尺寸1μm
8英寸光刻面積
高速掃描光刻
無掩膜光刻機(jī)
托托科技(蘇州)有限公司是一家注于顯微光學(xué)加工和顯微光學(xué)檢測域的公司,在基于數(shù)字微鏡器件的無掩膜光刻技術(shù)域中進(jìn)行了數(shù)年的深入研究和技術(shù)積累,其研制和生產(chǎn)的無掩膜紫外光刻機(jī)一經(jīng)問世,就受到了諸多客戶的青睞,在科研和工業(yè)域都有廣泛的應(yīng)用。例如,在微納加工域,可以用于制作MEMS器件、微流控芯片、微型傳感器等;在光電子域,可以用于制作光柵、衍射光學(xué)元件等。
托托科技致力于設(shè)備底層技術(shù)的研究和積累,不斷尋求技術(shù)的突破,努力為客戶帶來更好的設(shè)備和更好的使用體驗(yàn),幫助客戶創(chuàng)造更高的價(jià)值。
Speed系列是高速版的無掩膜版紫外光刻機(jī),其無掩膜光刻機(jī)配備了先進(jìn)的高速空間光調(diào)制器以及高功率紫外激光器。這一系列的光刻機(jī)不僅保證了高精度和高靈活性,更在這一基礎(chǔ)上,擁有了更高的光刻效率。其的性能特點(diǎn)使其特別適合小批量生產(chǎn)的場景。在該場景中,它能夠發(fā)揮出其高效的優(yōu)勢,為生產(chǎn)帶來更高的效率和更好的質(zhì)量。Speed 系列為相關(guān)產(chǎn)業(yè)提供了更優(yōu)質(zhì)的選擇,滿足了市場對于高效率、高質(zhì)量生產(chǎn)的需求
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