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  • PC450高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)

    高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)可以在粉末顆粒狀樣品表面鍍制金屬膜、磁性膜、絕緣膜等,采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的粉末樣品表面鍍制薄膜材料的科研項(xiàng)目。

    更新時(shí)間:2024-09-05
    型號:PC450
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:150
  • TRP450高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述: 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。 設(shè)備用途: 可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項(xiàng)目。

    更新時(shí)間:2024-09-05
    型號:TRP450
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:236
  • 線列式磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述: 磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。 設(shè)備用途: 用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項(xiàng)目。

    更新時(shí)間:2024-09-05
    型號:線列式
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:150
  • SMART磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述: 磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。 設(shè)備用途: 用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項(xiàng)目。

    更新時(shí)間:2024-09-05
    型號:SMART
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:115
  • PVD500高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。

    更新時(shí)間:2024-09-05
    型號:PVD500
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:139
  • PVD400高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述: 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。 設(shè)備用途: 用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。

    更新時(shí)間:2024-09-05
    型號:PVD400
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:119
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