高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)

簡要描述：高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)可以在粉末顆粒狀樣品表面鍍制金屬膜、磁性膜、絕緣膜等，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)?？蓮V泛應用于大專院校、科研院所的粉末樣品表面鍍制薄膜材料的科研項目。

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詳細介紹

1.產(chǎn)品概述：

高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)可以在粉末顆粒狀樣品表面鍍制金屬膜、磁性膜、絕緣膜等，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。

2.設備用途：

可廣泛應用于大院校、科研院所的粉末樣品表面鍍制薄膜材料的科研項目。

3.真空室結構:

圓筒形側開門，通常采用不銹鋼材質制造，具備良好的密封性能

真空室尺寸:Ф450x550mm

限真空度:≤8.0E-5Pa

沉積源:永磁靶2套，φ3英寸

樣品尺寸，溫度:小型粉末顆粒狀樣品

占地面積（長x寬x高）:約1米x1.8米x2米

電控描述:全自動設備電控系統(tǒng)和控制系統(tǒng)：采用計算機控制，具有液晶顯示屏、鼠標鍵盤操作界面，支持自動控制和手動控制兩種方式，操作簡便，并可實現(xiàn)真空系統(tǒng)及工藝過程的全自動化操作。

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