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離子束沉積產(chǎn)品是因為它們能夠生產(chǎn)具有高質(zhì)量，致密和表面光滑的沉積薄膜。離子束技術(shù)提供了一種多樣的刻蝕和沉積的方法，并可在同一設(shè)備上實現(xiàn)， 因而提高系統(tǒng)的利用率。我們的設(shè)備具有靈活的硬件選項，包括直開式、單襯底傳送模式和盒式對盒式模式。系統(tǒng)規(guī)格與實際應(yīng)用緊密協(xié)調(diào)，以確保獲得速率更快且重復(fù)性更好的工藝結(jié)果。

用 Veeco 的 SPECTOR® 離子束濺射 （IBD） 光學鍍膜系統(tǒng)，實現(xiàn)更高的精度和薄膜工藝靈活性。SPECTOR IBD 光學鍍膜系統(tǒng)具有多種夾具、目標組件的光學監(jiān)控系統(tǒng)選項，可滿足幾乎所有光學薄膜制造應(yīng)用的產(chǎn)量和器件性能要求。 SPECTOR 雙離子束濺射系統(tǒng)

濺射鍍膜設(shè)備SMD系列（立式） SMD 系列是鍍金屬膜、ITO、IGZO、誘電體膜等的枚葉式濺射鍍膜設(shè)備。僅SMD系列就有超過1000臺的豐富的采用實績，在各種各樣的生產(chǎn)環(huán)境下運轉(zhuǎn)。及時反映從生產(chǎn)現(xiàn)場聽取的意見，進一步提高設(shè)備的可靠性。

Load-lock式濺射設(shè)備是可對應(yīng)從研究開發(fā)到小規(guī)模量產(chǎn)的濺射設(shè)備。這種設(shè)備通過在真空濺射室之前增加一個預(yù)真空鎖室（Load-lock chamber），實現(xiàn)了基片在預(yù)真空環(huán)境下進行快速裝卸，同時保持了濺射室的高真空狀態(tài)。

批次式濺射設(shè)備SV系列 SV系列為縱型batch式濺射設(shè)備。為可以處理大量基板的回轉(zhuǎn)型設(shè)備。

卷繞式真空蒸鍍設(shè)備 EW系列 塑料薄膜、紙、金屬箔等連續(xù)卷繞的同時，對金屬和氧化物進行蒸鍍的成膜設(shè)備。從小型的實驗機到大量的生產(chǎn)設(shè)備，此外，還提供一系列用于包裝材料，電容器，磁帶等其他應(yīng)用的型號。