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當(dāng)前位置:首頁  >  產(chǎn)品中心  >  其他前道工藝設(shè)備  >  8 氧化設(shè)備、退火設(shè)備

  • THEORIS X302系列12英寸立式中高溫氧化爐

    12英寸立式中高溫氧化爐THEORIS X302H主要用于12英寸1000℃-1200℃高溫和超高溫氧化和退火工藝。該機(jī)臺為立式單腔爐管系統(tǒng),工藝處理過程實現(xiàn)了高度自動化。系統(tǒng)主要由傳輸模塊、工藝模塊、電源柜等部分組成。THEORIS X302P主要用于12英寸600℃-1000℃氧化及退火工藝。該機(jī)臺為立式單腔爐管系統(tǒng),工藝處理過程實現(xiàn)了高度自動化系統(tǒng)主要由傳輸模塊、工藝模塊、電源柜等部分組成。

    更新時間:2024-09-04
    型號:THEORIS X302系列
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:291
  • LSA 201 環(huán)境控制激光尖峰退火設(shè)備

    Veeco 的 LSA201 激光尖峰退火 (LSA) 系統(tǒng)具有與 LSA101 相同的架構(gòu),可在掃描激光系統(tǒng)中實現(xiàn)全晶圓環(huán)境控制。該微室在于它不需要使用真空負(fù)載鎖。該系統(tǒng)能夠運行任何惰性氣體的混合物,包括合成氣體。LSA201 適用于高 k 金屬柵極結(jié)活化和鎳硅化物形成等應(yīng)用。

    更新時間:2024-09-06
    型號:
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:196
  • LSA 101 激光尖峰退火設(shè)備

    LSA 101 激光尖峰退火設(shè)備 系統(tǒng)安裝的 IDM 和晶圓代工廠,是大批量制造 40nm 至 140nm 節(jié)點的先進(jìn)邏輯器件的技術(shù)。LSA 101 的掃描技術(shù)基于 Veeco 的可定制 Unity 平臺™構(gòu)建,在均勻性和低應(yīng)力處理方面具有根本優(yōu)勢。

    更新時間:2024-09-06
    型號:
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:204
  • RTP-200快速退火爐

    由德國UNITEMP研發(fā)的用于 200 毫米(8 英寸)晶圓尺寸或 M10 182 x 182 毫米太陽能硅片的快速退火爐RTP-200。

    更新時間:2024-09-05
    型號:RTP-200
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:191
  • RTP-150-HV快速退火爐

    由德國UNITEMP研發(fā)符合高真空標(biāo)準(zhǔn)的快速退火爐,升溫速率高達(dá) 75 K/sec。,升溫速率高達(dá) 150 K/sec。主要特點:良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工藝周轉(zhuǎn)時間短、舒適的氣體控制、臺式系統(tǒng),占地面積小。

    更新時間:2024-09-05
    型號:RTP-150-HV
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:161
  • RTP-150-EP快速退火爐

    由德國UNITEMP研發(fā)的真空快速退火爐RTP-150-EP,升溫速率高達(dá) 150 K/sec。主要特點:良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工藝周轉(zhuǎn)時間短、舒適的氣體控制、臺式系統(tǒng),占地面積小。

    更新時間:2024-09-05
    型號:RTP-150-EP
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:188
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