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SiC用高溫離子注入設(shè)備 IH-860DSIC 搭載了高溫ESC（靜電吸附卡盤(pán)）的面向SiC量產(chǎn)用的高能粒子注入裝置。
更新時(shí)間：2024-09-06
型號(hào)：IH-860DSIC
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商
瀏覽量：311
研究開(kāi)發(fā)用中電流離子注入設(shè)備IMX-3500 中電流離子注入裝置IMX-3500為大能量200keV、對(duì)應(yīng)大晶圓尺寸8inch的離子注入裝置，適用于大學(xué)等機(jī)構(gòu)的研究開(kāi)發(fā)。
更新時(shí)間：2024-09-06型號(hào)：IMX-3500廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：287
高能對(duì)應(yīng)離子注入設(shè)備SOPHI-400 可達(dá)2400KeV的高能離子注入設(shè)備。
更新時(shí)間：2024-09-06型號(hào)：SOPHI-400廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：289
可對(duì)應(yīng)低速高濃度的離子注入設(shè)備SOPHI-30 低加速、高濃度對(duì)應(yīng)的離子注入設(shè)備。
更新時(shí)間：2024-09-06型號(hào)：SOPHI-30廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：256
離子注入機(jī)是高壓小型加速器中的一種，應(yīng)用數(shù)量最多。它是由離子源得到所需要的離子，經(jīng)過(guò)加速得到幾百千電子伏能量的離子束流，用做半導(dǎo)體材料、大規(guī)模集成電路和器件的離子注入，還用于金屬材料表面改性和制膜等。
更新時(shí)間：2024-09-06型號(hào)：customized廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：1180
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