當(dāng)前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 其他前道工藝設(shè)備 > 10 其他 > SR110區(qū)熔法硅芯爐
簡要描述:SR110區(qū)熔法硅芯爐的工作方式與區(qū)熔系統(tǒng)類似。該系統(tǒng)使用一個在高頻感應(yīng)線圈下直徑為100毫米的多晶硅棒(源棒)。根據(jù)硅棒的長度,在多個拉動工藝中可以產(chǎn)生特定數(shù)量的硅芯;然后這些硅芯被用作西門子下游工藝中的原棒。通過隔離閥將接收爐體與工藝爐體分開,可以將完成的硅芯取出,并立即開始下一個工藝。通過引入擴散到熔體中的工藝氣體可以對細(xì)桿進(jìn)行摻雜處理。
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改良后的硅芯爐設(shè)計采用兩個直徑約為50毫米的源桿,并可以從每個源桿上拉出硅芯。
產(chǎn)品數(shù)據(jù)概覽:
材料:硅
細(xì)桿
長度: 最長3200毫米
直徑: 大約8毫米
源桿
長度: 最長 1,000 mm
直徑: 100 mm (4")
極限真空度: 5 x 10-2 mbar
最大過壓: 0.35 bar(g)
發(fā)電機
輸出電壓: 30 kW
頻率: 2.8 MHz
上拉式進(jìn)料
拉動速度: 最高60毫米/分鐘
下拉式進(jìn)料
拉動速度: 最高 10 mm/min
轉(zhuǎn)速: 高達(dá) 20 rpm
尺寸規(guī)格
高度: 7,300 mm
寬度: 1,820 mm
深度: 1,250 mm
占地面積(總計): 2,500 mm x 2,800 mm
重量(總計): 約6,000 kg
區(qū)熔(FZ)技術(shù)作為提純方法為生產(chǎn)高電阻率的超純硅單晶提供了技術(shù)可行性,該技術(shù)可應(yīng)用于高性能電子和半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域。其另一優(yōu)點是可以從氣相中連續(xù)摻入,這使得在整個晶體的電阻率沿長度方向保持一致。因此,幾乎可以在整個晶體上均勻地實現(xiàn)所需的電性能。由于電荷載流子的高壽命和極低的氧含量(無坩堝工藝),FZ晶體同樣也適用于光伏行業(yè)。
區(qū)熔(FZ)技術(shù)作為提純方法與CZ直拉工藝等競爭方法相比,FZ工藝的優(yōu)勢在于只有緊鄰感應(yīng)線圈的一小部分晶體需要被熔化,無需使用石英坩堝(每爐次耗用一個),可實現(xiàn)高拉速,因此降低了耗材成本的同時也降低了能源成本。此外,無論是從硅還是其他合適的材料中提取的晶體,可以通過多次處理,顯著地提高純度。
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