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簡要描述:單腔立式甩干機(jī)適用于晶圓直徑至200mm;25片晶圓單盒工藝;標(biāo)準(zhǔn)的高邊和低邊花籃;可選內(nèi)置電阻率檢測傳感器來控制晶圓的清洗工藝;用冷或熱的N2輔助晶圓干燥;離心頭容易更換。去靜電裝置安裝于工藝腔室區(qū):去離子水回收;去阻率檢測裝置;機(jī)械手自動加載;可放置臺面操作的設(shè)備、單立、雙腔;去離子水加熱系統(tǒng);底座置放不銹鋼滾輪;溶劑滅火裝置;適用特殊設(shè)計(jì)的花籃。
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1. 產(chǎn)品概述:
單腔立式甩干機(jī)是一種用于實(shí)現(xiàn)物料高效脫水的設(shè)備。其通過特定的機(jī)械結(jié)構(gòu)和工作原理,能快速將物料中的水分分離出去,達(dá)到甩干的目的。
2. 設(shè)備應(yīng)用:
o 半導(dǎo)體行業(yè):在半導(dǎo)體制造過程中,可用于晶圓等半導(dǎo)體材料的清洗后脫水,確保晶圓表面干燥,避免水分殘留對后續(xù)工藝產(chǎn)生影響,例如在光刻、鍍膜等工序前,保證晶圓的潔凈度和干燥度,有助于提高半導(dǎo)體產(chǎn)品的質(zhì)量和性能 1。
o 電子元件制造:對電子元件進(jìn)行清洗后的脫水處理,能有效去除元件表面的水分,防止水分對元件的性能和可靠性造成損害,如在印刷電路板(PCB)制造中,可使清洗后的 PCB 快速干燥,為后續(xù)的焊接、組裝等工序提供良好條件。
3. 設(shè)備特點(diǎn):
優(yōu)點(diǎn):清洗系統(tǒng)應(yīng)用于各種清洗和干燥工藝。不同配置(可放置臺面操作的設(shè)備、單腔單立、雙腔);適用于晶圓尺寸200mm;佳的占地,設(shè)備帶有滾輪可移動;可靠性;模塊化結(jié)構(gòu);其便于維修;易于使用和操作。
一般特征:適用于晶圓直徑至200mm;25片晶圓單盒工藝;標(biāo)準(zhǔn)的高邊和低邊花籃;可選內(nèi)置電阻率檢測傳感器來控制晶圓的清洗工藝;用冷或熱的N2輔助晶圓干燥;離心頭容易更換。
去靜電裝置安裝于工藝腔室區(qū):去離子水回收;去阻率檢測裝置;機(jī)械手自動加載;可放置臺面操作的設(shè)備、單腔單立、雙腔;去離子水加熱系統(tǒng);底座置放不銹鋼滾輪;溶劑滅火裝置;適用特殊設(shè)計(jì)的花籃。
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