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全自動CMP晶圓清洗一體機

簡要描述:韓國G&P的全自動CMP晶圓清洗一體機是一臺可以自動拋光和清潔300毫米晶圓的機器。

  • 產(chǎn)品型號:GNP GPC-300A
  • 廠商性質:經(jīng)銷商
  • 更新時間:2024-09-05
  • 訪  問  量: 151

詳細介紹

規(guī)格:

拋光機部分機頭,工作臺:30- 200rpm,旋轉運動,機頭振蕩(±15mm)

拋光機尺寸:1626 *1500 *1950毫米

重量:2500公斤壓板尺寸:Φ 762毫米(30英寸),特氟龍涂層鋁

壓制方式:可變空氣

壓力電子控制器膜類型:70-350/平方厘米(1 psi~5 psi)12"晶圓片

CMP制程:Si CMP、氧化物CMP(BPSG、TEOSSC)、金屬CMP(WCu)、STI、PGI

可添加選項

墊式調理方法:擺頭式或擺臂式

單頭或雙頭系統(tǒng)

摩擦力和溫度監(jiān)測系統(tǒng)

清潔:

清洗機尺寸:w3050 / d1250 / h1960毫米

重量:1200公斤電刷尺寸:270(外徑)032(內徑)320()毫米

配置:獨立配置4個清洗工位,DIW刀預清洗,2個雙面滾刷清洗,N2吹旋漂干

預清洗工位:DIW噴霧清洗,工位間DIW帷幕清洗

輥刷工位

化學:nh4oh<1%)或DIW

刷型:雙面PVA

轉速:<滿量程的±2%范圍30~300rpm

化學品供應:4個噴嘴和通過刷子

可用化學:4化學

化學品流量:滿量程< 1l /min

DI流量:滿量程< 10l /min

轉站

旋轉速度:最高2500/

DIW沖洗/ N2(可選:)

控制

工藝:自動上片,自動順序,濕進/干出

程序控制:PC &觸摸屏監(jiān)控,程序可編程,計算機網(wǎng)絡可比



1. 規(guī)格

拋光機部分機頭,工作臺:30- 200rpm,旋轉運動,機頭振蕩(±15mm)

拋光機尺寸:1626 *1500 *1950毫米

重量:2500公斤壓板尺寸:Φ 762毫米(30英寸),特氟龍涂層鋁

壓制方式:可變空氣

壓力電子控制器膜類型:70-350/平方厘米(1 psi~5 psi)12"晶圓片

CMP制程:Si CMP、氧化物CMP(BPSGTEOS、SC)、金屬CMP(WCu)STI、PGI

2. 可添加選項

墊式調理方法:擺頭式或擺臂式

單頭或雙頭系統(tǒng)

摩擦力和溫度監(jiān)測系統(tǒng)

3. 清潔

清洗機尺寸:w3050 / d1250 / h1960毫米

重量:1200公斤電刷尺寸:270(外徑)032(內徑)320()毫米

配置:獨立配置4個清洗工位,DIW刀預清洗,2個雙面滾刷清洗,N2吹旋漂干

預清洗工位:DIW噴霧清洗,工位間DIW帷幕清洗

輥刷工位

化學:nh4oh<1%)或DIW

刷型:雙面PVA

轉速:<滿量程的±2%范圍30~300rpm

化學品供應:4個噴嘴和通過刷子

可用化學:4化學

化學品流量:滿量程< 1l /min

DI流量:滿量程< 10l /min

轉站

旋轉速度:2500/

DIW沖洗/ N2(可選:強掃)

控制

工藝:自動上片,自動順序,濕進/干出

程序控制:PC &觸摸屏監(jiān)控,程序可編程,計算機網(wǎng)絡可比

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