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CMP后清洗機(jī)

簡要描述：該系列設(shè)備是碳化硅晶圓拋光后的專用清洗設(shè)備，采用連線式結(jié)構(gòu)，設(shè)備加配全自動(dòng)上下片系統(tǒng)。該系列設(shè)備配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、N2吹干、高速甩干功能，集成度高，占地面積小，濕進(jìn)干出，適用于碳化硅晶圓拋光后的清洗。

  • 產(chǎn)品型號：TSC-150C/200C
  • 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間：2024-09-06
  • 訪  問  量： 151

詳細(xì)介紹


該系列設(shè)備是碳化硅晶圓拋光后的專用清洗設(shè)備，采用連線式結(jié)構(gòu)，設(shè)備加配全自動(dòng)上下片系統(tǒng)。該系列設(shè)備配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、N2吹干、高速甩干功能，集成度高，占地面積小，濕進(jìn)干出，適用于碳化硅晶圓拋光后的清洗。

產(chǎn)品特點(diǎn)

全自動(dòng)系統(tǒng)

皮帶傳動(dòng)， cassette in/out 干進(jìn)干出

PLC控制系統(tǒng)

觸摸屏操作

清洗工藝

預(yù)清洗/雙面刷洗/藥液噴霧漂洗 /兆聲噴淋/高速甩干/氮?dú)獯蹈?/span>

刷子類型

PVA 刷, 雙面刷洗

性能參數(shù)

規(guī)格/參數(shù)TSC-150CTSC-200C
工藝雙面刷洗雙面刷洗
清洗工位皮帶傳送式6工位皮帶傳送式6工位
上下片全自動(dòng)全自動(dòng)
晶圓尺寸3-6 inch6-8 inch
上料位浸沒式浸沒式
漂洗（預(yù)清洗）DIW沖洗DIW沖洗
刷洗工位*22個(gè)PVA刷，雙面刷洗2個(gè)PVA刷，雙面刷洗
PVA刷轉(zhuǎn)速30-400 RPM30-400 RPM
兆聲清洗可選可選
氮?dú)獯蹈?/td>有有





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