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直拉法晶體生長(zhǎng)系統(tǒng)CGS1218單晶爐，專為符合半導(dǎo)體行業(yè)的嚴(yán)格要求而設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)采用模塊化設(shè)計(jì)，且可以配置鋼絲軟軸或硬軸。配合特殊的晶體軸配置能夠達(dá)到最高的精度，因此確保了提拉速度的線性可調(diào)和可重復(fù)性。
更新時(shí)間：2024-09-05
型號(hào)：CGS1218
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
瀏覽量：118
使用 Veeco 的 Optium® ASL 200™ 研磨系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)更高水平的控制和 TFMH 工藝產(chǎn)量。這種高精度硬盤頭研磨系統(tǒng)可大程度地控制關(guān)鍵薄膜尺寸，并且設(shè)計(jì)用于輕松集成到自動(dòng)化后端處理中。
更新時(shí)間：2024-09-04型號(hào)：Optium ASL-200廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：150
G&P旗下的GNP POLI-PCB系列CMP主要運(yùn)用于研發(fā)，操作簡(jiǎn)單，成本低。
更新時(shí)間：2024-09-04型號(hào)：GNP POLI-PCB系列廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：196
GnP POLI-610專為藍(lán)寶石等復(fù)合晶圓的CMP工藝開發(fā)而設(shè)計(jì)。特別是該系統(tǒng)對(duì)于晶圓工藝開發(fā)具有較低的擁有成本，材料評(píng)估和生產(chǎn)前運(yùn)行。
更新時(shí)間：2024-09-04型號(hào)：GNP POLI-610廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：168
GNP CLEANER-412S型CMP后清洗機(jī)集成了兩個(gè)雙刷站，設(shè)計(jì)緊湊，占地面積小，可清洗(4“~12“)晶圓。
更新時(shí)間：2024-09-04型號(hào)：GNP CEANER-412S廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：205
GNP CLEANER-412R型CMP后清洗機(jī)集成了兩個(gè)雙刷站，設(shè)計(jì)緊湊，占地面積小，可清洗(4“~12“)晶圓。
更新時(shí)間：2024-09-04型號(hào)：GNP CLEANER-412R廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：179
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