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RIE-300NR是一種理想的RIE等離子刻蝕設(shè)備，適用于加工ø300mm晶圓和多晶圓（ø3“×12，ø4“×8等），具有優(yōu)異的均勻性。該系統(tǒng)的設(shè)計旨在大限度地減少工廠空間需求，提高產(chǎn)量，大限度地延長正常運行時間，并通過可靠的硬件和便捷的服務(wù)降低擁有成本。

RIE-200C RIE等離子刻蝕設(shè)備是在擁有豐富交貨業(yè)績的CCP RIE系統(tǒng) “RIE-10NR “的基礎(chǔ)上開發(fā)的量產(chǎn)型盒式裝載系統(tǒng)。該系統(tǒng)可對Si、Poly-Si、SiO?、SiN等各種硅薄膜進行高精度蝕刻和灰化。采用雙盒雙臂機械手，PLC控制全自動操作，高性能存儲工藝參數(shù)，實現(xiàn)了高產(chǎn)量。

RIE-200NL是一種負載鎖定型的反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)，它提高了工藝的可重復(fù)性，并允許腐蝕性氣體化學(xué)。優(yōu)化的工藝室設(shè)計可在ø8 “晶圓或ø220mm小晶圓的載盤上提供優(yōu)異的均勻性。該系統(tǒng)可實現(xiàn)精確的側(cè)壁輪廓控制和材料之間的高蝕刻選擇性。RIE-200NL設(shè)計時尚、緊湊，只需小的潔凈室空間。

高密度等離子體刻蝕設(shè)備采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統(tǒng)配備了真空盒室，是一套完整的生產(chǎn)系統(tǒng)，具有優(yōu)良的工藝重復(fù)性和穩(wěn)定性。

RIE-10NR是一種新型的低成本、高性能的全自動RIE等離子刻蝕設(shè)備，它能滿足非腐蝕性氣體化學(xué)苛刻的工藝要求。計算機化的觸摸屏為參數(shù)控制和存儲提供了一個用戶友好的界面。該系統(tǒng)可實現(xiàn)精確的側(cè)壁輪廓控制和材料間的高蝕刻選擇性。RIE-10NR具有時尚、緊湊的設(shè)計，需要小的潔凈室空間。

RIE-230iP是以電感耦合等離子體為放電方式，等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備高速進行各種材料的超精細加工的負載鎖定型ICP蝕刻系統(tǒng)。該系統(tǒng)通過采用龍卷風(fēng)式線圈電，高效地產(chǎn)生穩(wěn)定的高密度等離子體，可對硅及各種金屬薄膜和化合物半導(dǎo)體進行高精度的各向異性蝕刻。