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金屬有機化學氣相沉積

簡要描述:Propel HVM GaN MOCVD 系統(tǒng),用于電源、5G 射頻和光子學,單晶圓反應(yīng)器技術(shù)為電源、5G 射頻和光子學應(yīng)用提供高效、高質(zhì)量的氮化鎵基器件

  • 產(chǎn)品型號:Propel HVM GaN
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時間:2024-09-05
  • 訪  問  量: 347

詳細介紹

1.產(chǎn)品概述:

Veeco的Propel™HVMGaNMOCVD系統(tǒng)被設(shè)計為一種大批量制造單晶圓反應(yīng)器簇系統(tǒng),適用于基于GaN的功率、射頻和光子器件。采用單晶圓反應(yīng)器平臺,能夠在150和200毫米晶圓上產(chǎn)生高質(zhì)量外延膜性能,以實現(xiàn)均勻性、可重復(fù)性和良率。PropelHVM系統(tǒng)可配置多達6個模塊化集群室,以實現(xiàn)最大的生產(chǎn)力和靈活性,是客戶、鑄造廠或IDM業(yè)務(wù)的理想選擇。

2.產(chǎn)品優(yōu)勢

單晶圓反應(yīng)器基于VeecoTurboDisc®設(shè)計,采用突破性技術(shù),包括IsoFlange™和SymmHeat™,可在整個晶圓上提供層流和均勻的溫度分布。客戶可以輕松地將工藝從Veeco的單晶圓反應(yīng)器Propel和K465i™系統(tǒng)轉(zhuǎn)移到PropelHVMGaNMOCVD平臺,以實現(xiàn)快速開發(fā)到生產(chǎn)周期.

Veeco的Propel™HVMGaNMOCVD系統(tǒng)被設(shè)計為一種大批量制造單晶圓反應(yīng)器簇系統(tǒng),適用于基于GaN的功率、射頻和光子器件。采用單晶圓反應(yīng)器平臺,能夠在150和200毫米晶圓上產(chǎn)生高質(zhì)量外延膜性能,以實現(xiàn)均勻性、可重復(fù)性和良率。PropelHVM系統(tǒng)可配置多達6個模塊化集群室,以實現(xiàn)大的生產(chǎn)力和靈活性,是客戶、鑄造廠或IDM業(yè)務(wù)的理想選擇。

單晶圓反應(yīng)器基于VeecoTurboDisc®設(shè)計,采用突破性技術(shù),包括IsoFlange™和SymmHeat™,可在整個晶圓上提供層流和均勻的溫度分布??蛻艨梢暂p松地將工藝從Veeco的單晶圓反應(yīng)器Propel和K465i™系統(tǒng)轉(zhuǎn)移到PropelHVMGaNMOCVD平臺,以實現(xiàn)快速開發(fā)到生產(chǎn)周期。



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