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SENTECH Depolab 200 是基本的等離子體增強化學氣相沉積 （PECVD） 系統(tǒng)，適用于沉積用于蝕刻掩模、膜和電隔離膜以及許多其他材料的介電膜。

SENTECH SI 500 CCP 系統(tǒng)使用動態(tài)溫度控制和氦背冷卻，代表了材料蝕刻靈活性的優(yōu)勢。等離子體蝕刻過程中的襯底溫度設置和穩(wěn)定性是高質量蝕刻的嚴格標準。具有動態(tài)溫度控制功能的襯底電極與氦氣背面冷卻和晶圓背面溫度傳感相結合，可在很寬的溫度范圍內提供出色的工藝條件。

鈣鈦礦專用涂膜機，配備4.3寸全彩觸屏，操作便捷。采用硬質陽極氧化鋁面板，帶真空吸附，確保涂膜穩(wěn)定。精準控制移動速率，提高涂膜重復性?？蛇x配多種涂膜工具，適應不同需求。風刀角度與高度可調，工藝靈活。是高效、精密的涂膜解決方案。

DM200-SE全封閉式桌面顯影機的特點包括： 全封閉式顯影：有效避免顯影過程中產(chǎn)生的霧氣擴散到外部，從而保護環(huán)境免受污染。 外殼噴塑處理：外殼采用噴塑工藝，不僅耐腐蝕，還易于清洗，保持設備整潔。 內腔特氟龍涂層：內腔表面鍍有特氟龍，表面光滑且耐腐蝕，同時易于清潔，確保顯影效果。 內置真空過濾器：配備真空過濾器，有效防止液體被吸入真空泵，保護設備免受損壞。 真空壓力可調：用戶可根據(jù)需要調整真空壓

SENTECH SI 591 緊湊型 RIE 等離子蝕刻系統(tǒng)具有負載鎖定功能，是氯基和氟基 RIE 的緊湊型解決方案。

MS6-CA手動光刻機是一款高性能的精密加工設備，專為微電子、半導體、光電等領域的研發(fā)與生產(chǎn)設計。