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Kurt J. Lesker Company PVD-BATCH DRUM系列由兩種標(biāo)準尺寸(PVD 200 和 PVD 500)組成,可配置為水平或垂直配置。當(dāng)顆粒物是一個主要問題時,水平配置優(yōu)先。水平和垂直配置均可用于 3D 涂層的雙軸旋轉(zhuǎn)。通過每次運行的沉積面積來衡量的吞吐量范圍從幾百平方英寸到超過 2000 平方英寸,并且還提供更大的定制系統(tǒng)。
概述 針對有機材料沉積進行了優(yōu)化 多達 12 個 LTE 信號源;1cc、10cc或35cc容量 主體與摻雜劑比 1000:1 多達 4 個熱蒸發(fā)源 基板快門 自動基板、掩膜存儲和更換 高溫計端口 手套箱接口設(shè)計,帶滑動前門和滑動后門 KJLC eKLipse™ 控制軟件 速率控制分辨率 0.05Å/s 基于配方的基于 PC 的系統(tǒng)控制 低溫泵高真空泵 2位閘閥
Kurt J. Lesker Company 的有機薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)和金屬 SPECTROS™ 150 是基于主力 SPECTROS 平臺的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。SPECTROS平臺是一種成熟、堅固和多功能的設(shè)計。SPECTROS建立在原始設(shè)計的成功基礎(chǔ)上,改進了系統(tǒng)基礎(chǔ)壓力和抽空時間。腔室設(shè)計、具有高級編程功能的行業(yè)最佳軟件控制系統(tǒng)、實時配方線程操作以及用于優(yōu)化薄膜性能的眾多功能。
Kurt J. Lesker Company Mini SPECTROS™是基于主力SPECTROS平臺的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。SPECTROS平臺在全球擁有100多臺設(shè)備,是一種成熟、堅固和多功能的設(shè)計。Mini SPECTROS建立在原始設(shè)計的成功基礎(chǔ)上,改進了系統(tǒng)基礎(chǔ)壓力和抽空時間。技術(shù)的腔室設(shè)計、具有高級編程功能的行業(yè)最佳軟件控制系統(tǒng)、實時配方線程操作以及用于優(yōu)化薄膜性能的眾多功能,這些
Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 濺射或熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)是我們優(yōu)化的入門級沉積系統(tǒng)。我們的腔室設(shè)計特別適合手套箱集成。NANO 36 具有更高的功能和更小的占地面積,提供了實惠的價格點,同時保持了您期望從 KJLC 獲得的質(zhì)量。