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簡要描述:Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 200 多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺是一種模塊化、功能齊全的薄膜沉積系統(tǒng),可實(shí)現(xiàn) 8 英寸晶圓轉(zhuǎn)移、多達(dá) 8 個濺射陰極和 eKLipse 高級控制軟件。
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Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 200 是一種模塊化、功能齊全的薄膜沉積系統(tǒng),可實(shí)現(xiàn) 8 英寸晶圓轉(zhuǎn)移、多達(dá) 8 個濺射陰極和 eKLipse 高級控制軟件。PVD 系列在全球擁有 500 多臺設(shè)備,是一種成熟、堅固且多功能的設(shè)計,由 PVD 75 和 200 平臺組成。PRO Line PVD 200 建立在原始設(shè)計的成功基礎(chǔ)上,改進(jìn)了系統(tǒng)基礎(chǔ)壓力和抽空時間。技術(shù)的腔室設(shè)計、具有高級編程功能的行業(yè)最佳軟件控制系統(tǒng)、自動基板加載以及用于優(yōu)化薄膜性能的眾多功能是這種創(chuàng)新的設(shè)計提供的一些關(guān)鍵優(yōu)勢。®
PRO Line PVD 200 與以下技術(shù)兼容:
熱蒸發(fā)(最多六艘 4 英寸的獨(dú)立船)
TORUS 磁控濺射源(最多 8 個 2“ 或 3" 源)®
電子束蒸發(fā)源(4口袋8cc,8口袋12cc,6口袋20cc)
LTE10 有機(jī)沉積源(最多兩個)
上述技術(shù)的組合也可用。
可根據(jù)要求提供定制配置
KJLC的軟件允許用戶友好的配方創(chuàng)建,以及一個可靠、不間斷的處理模塊,無論計算機(jī)用戶界面的狀態(tài)如何,都可以完成過程。有關(guān)此直觀、可靠的軟件包的更多信息,請參閱“軟件"選項(xiàng)卡。
PRO Line PVD 200 在其工藝室中提供四種類型的高真空泵,一個 Pfeiffer 790 L/s 渦輪分子泵(標(biāo)準(zhǔn)),以及可選的 1250L/s Pfeiffer 渦輪分子泵、Brooks CTI-8F 1500 L/s 或 3000 L/s 低溫泵。普發(fā)渦輪分子泵是實(shí)現(xiàn)整體成本效益高質(zhì)量泵送的不錯選擇,尤其適用于濺射應(yīng)用。Brook CTI 低溫泵可用于需要盡可能低的真空度的應(yīng)用,特別是熱蒸發(fā)和電子束應(yīng)用。
右圖顯示了配備的 PRO Line PVD 200 工藝室按泵類型劃分的平均預(yù)期泵送性能,該工藝室清潔干燥,安裝了 (5) TORUS 3“ Mag-keeper 源和 3 英尺長的 1.5 英寸金屬柔性波紋管粗加工管線。
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