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當(dāng)前位置:首頁(yè)  >  產(chǎn)品中心  >  半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備  >  3 CVD  >  Propel 300mm GaN金屬化學(xué)氣相沉積MOCVD

金屬化學(xué)氣相沉積MOCVD

簡(jiǎn)要描述:用于 5G、光子學(xué)和 CMOS 的 Propel 300mm GaN MOCVD 系統(tǒng)
全自動(dòng)單晶圓簇系統(tǒng)可在 300 毫米基板上生產(chǎn) 5G 射頻、光子學(xué)和高級(jí) CMOS 器件。

  • 產(chǎn)品型號(hào):Propel 300mm GaN
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間:2024-08-13
  • 訪  問(wèn)  量: 229

詳細(xì)介紹

Propel™ 300mm全自動(dòng)單晶圓簇系統(tǒng)是經(jīng)過(guò)行業(yè)驗(yàn)證的GaN MOCVD工具,能夠在300mm襯底上生產(chǎn)5G RF、Photonic和先進(jìn)的CMOS器件。

Propel 300mm 系統(tǒng)采用單晶圓反應(yīng)器平臺(tái),能夠在 300mm 晶圓上生產(chǎn)的高質(zhì)量外延膜,具有出色的均勻性、可重復(fù)性和產(chǎn)量。Propel 300mm 系統(tǒng)可配置多達(dá) 3 個(gè)模塊化集群室,并提供自動(dòng)化的膜包到膜包處理,以實(shí)現(xiàn)最大的靈活性和生產(chǎn)率。

單晶圓反應(yīng)器基于 Veeco  TurboDisc® 設(shè)計(jì),包括 IsoFlange™ 和 SymmHeat™ 技術(shù),可在整個(gè)晶圓上提供層流和均勻的溫度分布??蛻艨梢暂p松地將工藝從 Veeco 單晶圓反應(yīng)器 Propel 和 Propel HVM 系統(tǒng)轉(zhuǎn)移到 Propel 300mm GaN MOCVD 系統(tǒng),以便快速開(kāi)發(fā)到生產(chǎn)。


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