當(dāng)前位置:首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 半導(dǎo)體分析測(cè)試設(shè)備 > 分析測(cè)試設(shè)備 > SENTECH SE 401adv激光橢圓儀
簡(jiǎn)要描述:SE 401adv 通過(guò)映射高達(dá) 200 毫米的液體單元、用于原位測(cè)量的液體單元、攝像機(jī)、自動(dòng)對(duì)焦、模擬軟件和經(jīng)過(guò)認(rèn)證的標(biāo)準(zhǔn)晶圓,可根據(jù)您的需求進(jìn)行調(diào)整。
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1. 產(chǎn)品概述
SE 401adv 通過(guò)映射高達(dá) 200 毫米的液體單元、用于原位測(cè)量的液體單元、攝像機(jī)、自動(dòng)對(duì)焦、模擬軟件和經(jīng)過(guò)認(rèn)證的標(biāo)準(zhǔn)晶圓,可根據(jù)您的需求進(jìn)行調(diào)整。
2. 主要功能與優(yōu)勢(shì)
亞埃精度
穩(wěn)定的氦氖激光器保證了 0.1 ? 的精度,用于超薄單層的薄膜厚度測(cè)量。
高速
SENTECH SE 401adv 激光橢偏儀的測(cè)量速度使用戶(hù)能夠監(jiān)測(cè)單片生長(zhǎng)和終點(diǎn)檢測(cè),或繪制樣品的均勻性圖譜。
測(cè)量的橢圓角具有高穩(wěn)定性和再現(xiàn)性
原位橢偏儀 SE 401adv 可用于監(jiān)測(cè)反射樣品表面不同環(huán)境因素的生長(zhǎng)和蝕刻過(guò)程。它測(cè)量橢圓角度 Ψ 和 Δ 的時(shí)間依賴(lài)性,并實(shí)時(shí)計(jì)算厚度和折射率
3. 靈活性和模塊化
SENTECH SE 401adv 原位激光橢偏儀可用于從可選的、特定于應(yīng)用的入射角表征單個(gè)薄膜和基板。自動(dòng)準(zhǔn)直望遠(yuǎn)鏡可確保在大多數(shù)具有平坦反射表面的吸收性或透明基材上進(jìn)行精確測(cè)量。集成的多角度測(cè)量支持(40° – 90°,步長(zhǎng)為 5°)可用于確定層堆疊的厚度、折射率和消光系數(shù)。
SENTECH SE 401adv是用于超薄單膜厚度測(cè)量的激光橢偏儀。SENTECH SE 401adv 原位激光橢偏儀的選件支持微電子、光伏、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、顯示技術(shù)、生命科學(xué)、金屬加工以及更多沿技術(shù)中的應(yīng)用。
SENTECH SE 401adv 通過(guò)映射高達(dá) 200 毫米的液體單元、用于原位測(cè)量的液體單元、攝像機(jī)、自動(dòng)對(duì)焦、模擬軟件和經(jīng)過(guò)認(rèn)證的標(biāo)準(zhǔn)晶圓,可根據(jù)您的需求進(jìn)行調(diào)整。
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