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當(dāng)前位置:首頁(yè)  >  產(chǎn)品中心  >  半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備  >  3 CVD  >  Beneq P1500原子層沉積ALD

原子層沉積ALD

簡(jiǎn)要描述:Beneq P1500 是我們最大的原子層沉積系統(tǒng),專門用于涂覆大型板材和復(fù)雜零件。它還用于為較小組件的批次提供更高的吞吐量。我們的客戶將 P1500 用于大直徑基板上的光學(xué)鍍膜、半導(dǎo)體設(shè)備部件的防腐鍍膜,以及在玻璃或金屬板上使用 ALD 的各種應(yīng)用。

  • 產(chǎn)品型號(hào):Beneq P1500
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間:2024-09-05
  • 訪  問(wèn)  量: 172

詳細(xì)介紹

1.產(chǎn)品概述:

 Beneq P1500 是我們大的原子層沉積系統(tǒng),門用于涂覆大型板材和復(fù)雜零件。它還用于為較小組件的批次提供更高的吞吐量。

我們的客戶將 P1500 用于大直徑基板上的光學(xué)鍍膜、半導(dǎo)體設(shè)備部件的防腐鍍膜,以及在玻璃或金屬板上使用 ALD 的各種應(yīng)用。

2.產(chǎn)品配置:

大型零件需要大型原子層沉積工具。 Beneq P1500 可容納大 1300 × 2400 mm 的零件,并且可以在廣域反射鏡或透鏡上沉積高質(zhì)量、功能性的光學(xué)涂層。它還用于涂覆 300 至 1000 毫米尺寸范圍的批量零件。

可能的基材包括:

4 代至第 6 代顯示屏玻璃

光伏玻璃板

天文鏡

半導(dǎo)體腔室蓋、襯墊和淋浴噴頭

印刷電路板

可擴(kuò)展性

3.產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):

提高較小基材批次的產(chǎn)量。 您目的涂料設(shè)備是否已滿負(fù)荷生產(chǎn)?Beneq P1500 能夠擴(kuò)大批量生產(chǎn)的規(guī)模,并為您的工作流程增加額外的涂層容量。

與較小的批量工具相比,P1500 可以提高您的涂層產(chǎn)量。此外,其大批量容量可以降低涂裝較小零件的成本,使 ALD 在許多應(yīng)用域中具有商業(yè)可行性。

P1500 配備了高容量驅(qū)體源和驅(qū)體滅活和過(guò)濾系統(tǒng),用于沉積厚度從納米到微米不等的薄膜批次。

Beneq P1500 是我們堅(jiān)固可靠的 P 系列的新示例,它受益于 35+ 多年的工業(yè) ALD 批量生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)。

P1500 可從室溫加熱到 400°C,輕松處理氣態(tài)、液態(tài)和固體驅(qū)體,包括有毒、自燃和腐蝕性驅(qū)體材料。

預(yù)熱烤箱

Beneq 有的預(yù)熱器。 我們可選的預(yù)熱烤箱縮短了加熱時(shí)間,并進(jìn)一步提高了您的吞吐量。


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