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簡(jiǎn)要描述:多角度激光橢偏儀 SE 400adv PV 在 HeNe 激光波長(zhǎng)為 632.8 nm 時(shí),在紋理單晶和多晶硅片上提供抗反射單膜的膜厚度和折射率。可更換晶圓支架允許在多晶硅片和堿性紋理單晶硅片上進(jìn)行測(cè)量。
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1. 產(chǎn)品概述
多角度激光橢偏儀 SE 400adv PV 在 HeNe 激光波長(zhǎng)為 632.8 nm 時(shí),在紋理單晶和多晶硅片上提供抗反射單膜的膜厚度和折射率??筛鼡Q晶圓支架允許在多晶硅片和堿性紋理單晶硅片上進(jìn)行測(cè)量。
2. 主要功能與優(yōu)勢(shì)
粗糙表面分析
高靈敏度和超低噪聲檢測(cè)允許在非理想的、引起雜散光的表面上進(jìn)行測(cè)量,這些表面是紋理化單晶硅和多晶硅太陽(yáng)能電池的典型特征。
非凡的準(zhǔn)確性
由于穩(wěn)定的激光光源、溫度穩(wěn)定的補(bǔ)償器設(shè)置和超低噪聲檢測(cè)器,SENTECH SE 400adv PV 激光橢偏儀的主要特點(diǎn)是具有非凡的高穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性。
精密涂層評(píng)估
SENTECH SE 400adv PV激光橢偏儀可以特別分析SiN涂層x、ITO、TiO2和SiO的薄鈍化層2和 Al2O3.可以在光滑的基板上分析雙層堆疊。
該工具是一款緊湊的儀器,可快速啟動(dòng)和運(yùn)行。SENTECH易于使用,以配方為導(dǎo)向的軟件包括一個(gè)全面的預(yù)定義應(yīng)用程序包,可滿足生產(chǎn)環(huán)境中的研發(fā)和質(zhì)量控制要求。
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