當(dāng)前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 半導(dǎo)體分析測試設(shè)備 > 分析測試設(shè)備 > SENTECH RM 1000 QC自動光譜反射儀
簡要描述:SENTECH RM 1000 QC反射儀設(shè)計用于快速簡單地測量透明或吸收基材上的透明和半透明薄膜的厚度,用于工業(yè)生產(chǎn)過程中的質(zhì)量控制。該工具涵蓋 20 nm 至 50 μm 的膜厚范圍,可用于< 100 μm 的測試圖案。
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1. 產(chǎn)品概要
SENTECH RM 1000 QC反射儀設(shè)計用于快速簡單地測量透明或吸收基材上的透明和半透明薄膜的厚度,用于工業(yè)生產(chǎn)過程中的質(zhì)量控制。該工具涵蓋 20 nm 至 50 μm 的膜厚范圍,可用于< 100 μm 的測試圖案。
2. 主要功能與優(yōu)勢
半自動桌面質(zhì)量控制
SENTECH RM 1000 QC是一款光學(xué)反射儀,用于對圖案化基板上的薄膜和散裝材料進行質(zhì)量控制。它是小規(guī)模和大規(guī)模生產(chǎn)中隨機抽樣、工具鑒定和統(tǒng)計過程控制 (SPC) 的理想選擇。
通過手動晶圓處理對圖案化晶圓進行質(zhì)量控制
SENTECH RM 1000 QC 易于手動裝載。然后,對于圖案化的 200 mm 晶圓,模式識別、映射測量、分析以及報告結(jié)果和統(tǒng)計信息都自動化。
集成到實驗室和晶圓廠環(huán)境中
SENTECH RM 1000 QC 可選擇通過 SECS/GEM 集成到制造執(zhí)行系統(tǒng)中。
3. 靈活性和模塊化
SENTECH RM 1000 QC 光譜反射儀提供法向入射的反射率光譜,SENTECH SpectraRay/4 軟件分析的參數(shù)包括薄膜厚度、吸收、成分、能隙、顏色和光譜帶寬。模式識別用于測量結(jié)構(gòu)化樣本。
該工具的操作流程其簡單,只需放置晶圓,啟動自動化過程,工具就會返回準(zhǔn)確的模式識別、測量和映射,以及精確、可重復(fù)的統(tǒng)計結(jié)果。
SpectraRay/4 是用于 SENTECH RM 1000 QC 的綜合光譜橢偏儀軟件。它包括兩種操作模式:配方模式和交互模式。配方模式允許輕松執(zhí)行常規(guī)應(yīng)用程序。交互模式通過交互式圖形用戶界面引導(dǎo)橢圓測量。
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