當(dāng)前位置:首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備 > 1 光刻設(shè)備 > KS-S300-SP12寸噴霧式涂膠機(jī)
簡(jiǎn)要描述:KS-S300全自動(dòng)噴霧式涂膠機(jī)通過(guò)超聲波將光阻霧化為微小顆粒,適用于在大深寬比的圖形表面以高分辨率均勻地涂敷光刻膠,可以有效覆蓋溝槽的側(cè)壁和邊緣,避免溝槽堆積,節(jié)省光刻膠;同時(shí)針對(duì)輕薄易碎的襯底,承片臺(tái)靜態(tài)噴霧式涂膠可以避免襯底在高速旋轉(zhuǎn)時(shí)碎裂的風(fēng)險(xiǎn)。產(chǎn)品可應(yīng)用于封裝、微機(jī)電系統(tǒng)制造等領(lǐng)域。該產(chǎn)品已通過(guò)SEMI S2認(rèn)證。
產(chǎn)品分類(lèi)
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1. 產(chǎn)品概述
KS-S300全自動(dòng)噴霧式涂膠機(jī)是一款創(chuàng)新型設(shè)備,通過(guò)超聲波技術(shù)將光刻膠霧化為微小顆粒,能夠在較大深寬比的圖形表面上以高分辨率均勻涂敷光刻膠。此技術(shù)的應(yīng)用顯著增強(qiáng)了涂膠效果,使得光刻膠能夠有效覆蓋溝槽的側(cè)壁和邊緣,從而避免了在傳統(tǒng)涂膠方式中常見(jiàn)的溝槽內(nèi)堆積現(xiàn)象。這種精確涂布不僅有助于提高成品的質(zhì)量,也能顯著節(jié)省光刻膠的使用量,降低材料成本。
針對(duì)輕薄易碎的襯底,KS-S300特別設(shè)計(jì)了靜態(tài)噴霧式涂膠系統(tǒng)。通過(guò)在涂膠過(guò)程中避免高速旋轉(zhuǎn),這種設(shè)計(jì)有效降低了襯底破裂的風(fēng)險(xiǎn),從而保護(hù)了高價(jià)值的材料,確保生產(chǎn)過(guò)程的安全性和可靠性。
KS-S300的應(yīng)用領(lǐng)域十分廣泛,包括半導(dǎo)體封裝、微機(jī)電系統(tǒng)制造(MEMS)及其他高科技領(lǐng)域。它不僅提升了工作效率,降低了材料浪費(fèi),還在精度和一致性方面滿足了嚴(yán)格的工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。此外,該設(shè)備已順利通過(guò)SEMI S2認(rèn)證,進(jìn)一步證明了其在安全性和質(zhì)量控制方面的可靠性。
2. 產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):
旋流式錐形霧化可均勻覆蓋高深寬比臺(tái)階的邊緣和底部
旋轉(zhuǎn)加熱式承片臺(tái)有效節(jié)省光刻膠
承片臺(tái)靜態(tài)噴涂規(guī)避輕薄襯底碎片風(fēng)險(xiǎn)
噴嘴具備內(nèi)外自動(dòng)清洗功能
3. 應(yīng)用域:
封裝
OLED域
MEMS
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