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簡要描述：產(chǎn)品概述：高真空有機(jī)及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備用途：熱蒸發(fā)是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi)，通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積于基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程。可在高真空下蒸發(fā)高質(zhì)量的不同厚度的金屬薄膜，廣泛應(yīng)用于物理，生物，化學(xué)，材料，電子等領(lǐng)域。
產(chǎn)品型號：DZ350廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時(shí)間：2024-09-05訪 問 量： 153產(chǎn)品分類
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1.產(chǎn)品概述：
該設(shè)備主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。
2.產(chǎn)品應(yīng)用：
在實(shí)際應(yīng)用中，這種系統(tǒng)常用于半導(dǎo)體、光電子、有機(jī)電子等域，用于制備各種有機(jī)薄膜、金屬薄膜或復(fù)合薄膜，以滿足不同器件和材料的研究與開發(fā)需求。
3.真空室:
沈陽科學(xué)儀器的高真空有機(jī)及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng) DZ350的詳細(xì)介紹可能因具體型號和配置而有所不同
真空室結(jié)構(gòu):U形開門
真空室尺寸:φ350×400mm
限真空度:≤6.6E-5Pa
沉積源:2個(gè)鎢舟、2個(gè)有機(jī)源
樣品尺寸，溫度:50mmx50mm，1片，高300℃
占地面積（長x寬x高）:約2.5米×1.2米×1.8米
電控描述:采用先進(jìn)的控制系統(tǒng)，方便用戶設(shè)置和調(diào)整工藝參數(shù)，如蒸發(fā)溫度、沉積時(shí)間等。
手動：樣品臺：擁有可旋轉(zhuǎn)或可移動的樣品臺，以便均勻沉積薄膜。
工藝:不含工藝
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