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無掩模光刻機(jī)

簡要描述:μMLA無掩模光刻機(jī)是優(yōu)良的無模板技術(shù),建立在著名的 μPG 平臺之上,該平臺是臺式無模板系統(tǒng)。

  • 產(chǎn)品型號:μMLA
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間:2024-09-05
  • 訪  問  量: 298

詳細(xì)介紹

1. 產(chǎn)品概述:

臺式 μMLA 系統(tǒng)是優(yōu)良的無模板技術(shù),建立在的 μPG 平臺之上,該平臺是全球高的臺式無模板系統(tǒng)。它是一款入門研發(fā)(R&D)工具,幾乎適用于任何需要微結(jié)構(gòu)的應(yīng)用。典型的例子有微流控(細(xì)胞分選裝置、芯片實(shí)驗(yàn)室)、小規(guī)模掩模寫入、微光學(xué)和微透鏡陣列、傳感器、MEMS、接觸式二維材料和扇出電等。

μMLA是一種靈活且可定制的工具,并提供兩種曝光模式。標(biāo)準(zhǔn)μMLA使用光柵掃描曝光模式進(jìn)行曝光,該模式速度快,可提供出色的圖像質(zhì)量和保真度,而寫入時(shí)間與圖案密度的結(jié)構(gòu)大小無關(guān)。可選的矢量掃描模式旨在以更快、更準(zhǔn)確的方式對連續(xù)平滑的曲線(如波導(dǎo))進(jìn)行圖案化。三種光學(xué)設(shè)置提供了可變分辨率和吞吐量的選擇。每種配置都允許在不同的分辨率和速度配置之間輕松切換,以優(yōu)化給定應(yīng)用的曝光。拉伸模式可以對現(xiàn)有結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接的臨時(shí)修改,并可以與納米線或 2D 材料進(jìn)行電接觸?;叶绕毓饽J皆试S創(chuàng)建復(fù)雜的 2.5 結(jié)構(gòu),例如微光學(xué)設(shè)備。μMLA占地面積小,可放在普通桌子上。


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