當(dāng)前位置:首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備 > 1 光刻設(shè)備 > ACS300 Gen3涂膠與顯影機(jī)
簡(jiǎn)要描述:ACS300 Gen3作為模塊化系統(tǒng),是為滿足量產(chǎn)環(huán)境而專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)的。它提供了復(fù)雜的涂膠、顯影和烘烤功能,可輕松地適應(yīng)各種工藝。其的工藝控制,有效地支持廣泛的使用領(lǐng)域。結(jié)合這一優(yōu)點(diǎn),再加上有8個(gè)旋涂器模塊,該系統(tǒng)仍然是市面上占地面積最小的系統(tǒng);這些品質(zhì)都有利于減小購(gòu)置成本,使得該設(shè)備對(duì)于任何具有挑戰(zhàn)性的先進(jìn)封裝應(yīng)用(如圓片級(jí)芯片封裝、扇出圓片級(jí)封裝、銅柱倒裝芯片封裝和3D封裝)
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通過(guò)在一個(gè)系統(tǒng)中提供多種工藝技術(shù),如光阻劑、聚酰亞胺和PBO涂層,ACS300 Gen3提供了高效率。它還為每個(gè)模塊提供了多達(dá)五種抗蝕劑或四種顯影劑的能力,以實(shí)現(xiàn)最佳的工藝靈活性。此外,通用的熱板設(shè)計(jì)消除了對(duì)不同抗蝕劑或PI類(lèi)型的特定熱板的需要。ACS300 Gen3允許同時(shí)處理200和300毫米的晶圓,而不需要進(jìn)行機(jī)械轉(zhuǎn)換。
ACS300 Gen3可以實(shí)現(xiàn)高效的模塊堆疊,從而節(jié)省了潔凈室中昂貴的空間。多達(dá)12個(gè)模塊可以方便地在三層模塊系統(tǒng)中相互排列,而該工具的多種節(jié)省化學(xué)品的功能實(shí)現(xiàn)了進(jìn)一步的節(jié)約。無(wú)論是SUSS MicroTec公司專(zhuān)有的GYRSET技術(shù)、新穎的分配技術(shù)還是化學(xué)品再循環(huán)系統(tǒng),該工具都能經(jīng)濟(jì)地使用化學(xué)品,并符合的可持續(xù)發(fā)展標(biāo)準(zhǔn)。
當(dāng)使用可選的第二個(gè)機(jī)器人系統(tǒng)時(shí),ACS300 Gen3在三步流程中達(dá)到了高達(dá)240 wph的吞吐率。一個(gè)先進(jìn)的過(guò)程控制系統(tǒng)優(yōu)化了處理時(shí)間:調(diào)度算法可以有選擇地交換,以確保瓶頸步驟的時(shí)間段得到充分的利用。此外,諸如在高溫下的顯影劑和流動(dòng)模式的特點(diǎn)也減少了加工時(shí)間。
使ACS300 Gen3脫穎而出的是其高度的過(guò)程控制。它可以連續(xù)記錄所有相關(guān)參數(shù)的過(guò)程數(shù)據(jù),如溫度、流量、壓力、體積、清洗率等。數(shù)據(jù)記錄允許精確調(diào)整過(guò)程參數(shù)、可重復(fù)的結(jié)果和快速識(shí)別潛在的薄弱點(diǎn)。過(guò)程變得更加穩(wěn)定和可重復(fù),產(chǎn)量也可以顯著提高。
占地面積小,高效的化學(xué)品處理,靈活的工藝,配置高,吞吐量的能力,穩(wěn)定的工藝結(jié)果
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