EPEE系列 等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

1、單片和多片式架構(gòu)，滿足量產(chǎn)和研發(fā)客戶需求

Advanced single-chip and multi-chip design, meet the needs of mass production and R&D

2、高效傳輸系統(tǒng)，智能軟件調(diào)度算法

Efficient transport system, intelligent software scheduling

3、高效遠(yuǎn)程等離子體清洗系統(tǒng)，優(yōu)異的顆?？刂?/p>

Efficient remote plasma cleaning system, superior particle control

4、支持氣態(tài)硅烷、液態(tài) TEOS 和碳膜等工藝

Supporting SiH4 base ,TEOS base deposition and Carbon process

5、支持在線膜厚和清洗終點實時監(jiān)測

Supporting on-line film thickness and dry-clean endpoint detection

技術(shù)參數(shù)

1、晶圓尺寸 4/6/8 英寸兼容

2、適用材料 氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃、非晶硅、非晶碳

3、適用工藝 氧化硅圖形化襯底層、鈍化層、絕緣層、掩膜層

4、適用領(lǐng)域 科研、化合物半導(dǎo)體、新興應(yīng)用、集成電路