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  • ELEDE® 380系列芯片刻蝕機(jī)

    ELEDE® 380系列 芯片刻蝕機(jī),優(yōu)良的等離子體發(fā)生裝置,適用多種材料刻蝕,工藝窗口寬。

    更新時(shí)間:2024-09-05
    型號(hào):ELEDE® 380系列
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商
    瀏覽量:556
  • Orion Proxima高密度等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    Orion Proxima 高密度等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)。

    更新時(shí)間:2024-09-05
    型號(hào):Orion Proxima
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商
    瀏覽量:384
  • Polaris系列12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)

    Polaris系列 12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng),磁控濺射源和腔室結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)有效提高靶材利用率。

    更新時(shí)間:2024-09-05
    型號(hào):Polaris系列
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商
    瀏覽量:459
  • Polaris系列8英寸 通用物理氣相沉積系統(tǒng)

    Polaris系列8英寸 通用物理氣相沉積系統(tǒng),多種材料膜層工藝能力,低損傷,高深寬比填充能力。

    更新時(shí)間:2024-09-05
    型號(hào):Polaris系列
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商
    瀏覽量:373
  • eVictor Al PVD鋁物理氣相沉積系統(tǒng)

    eVictor Al PVD 鋁物理氣相沉積系統(tǒng),優(yōu)良的磁控濺射系統(tǒng),有效提高薄膜均勻性及靶材利用率。

    更新時(shí)間:2024-09-05
    型號(hào):eVictor Al PVD
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商
    瀏覽量:580
  • GDE C200系列高密度 刻蝕機(jī)

    GDE C200系列 高密度 刻蝕機(jī),等離子體源和頻率設(shè)計(jì),等離子體密度高,適用于強(qiáng)鍵合材料刻蝕。

    更新時(shí)間:2024-09-05
    型號(hào):GDE C200系列
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商
    瀏覽量:894
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