鋁物理氣相沉積系統(tǒng)

簡要描述：eVictor Al PVD 鋁物理氣相沉積系統(tǒng)，先進(jìn)的磁控濺射系統(tǒng)，有效提高薄膜均勻性及靶材利用率。

產(chǎn)品型號：eVictor Al PVD
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時(shí)間：2024-09-05
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詳細(xì)介紹

1. 產(chǎn)品概述

eVictor Al PVD 鋁物理氣相沉積系統(tǒng)，先進(jìn)的磁控濺射系統(tǒng)，有效提高薄膜均勻性及靶材利用率。

2. 設(shè)備用途/原理

eVictor Al PVD 鋁物理氣相沉積系統(tǒng)，先進(jìn)的磁控濺射系統(tǒng)，有效提高薄膜均勻性及靶材利用率，加熱基座和高溫靜電卡盤設(shè)計(jì)，具備良好的溫度均勻性，全新雙腔傳輸平臺，可配置性強(qiáng)，多可支持 10 個(gè)工藝模塊，優(yōu)質(zhì)的 Whisker 解決方案，降低產(chǎn)品缺陷，大產(chǎn)能，低運(yùn)營成本。

3. 設(shè)備特點(diǎn)

晶圓尺寸 8、12 英寸，適用材料高溫鋁、氮化鉭、氮化鈦。適用工藝熱鋁、鋁焊盤、鋁線，適用域新興應(yīng)用。