1. 產品概述：

KaRoll RTR1C 是一種先進的卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)，主要用于在柔性基底材料上連續(xù)地進行薄膜濺射沉積。它能夠將各種金屬、合金或化合物材料以精確的厚度和均勻性沉積在卷狀的基底上，如聚合物薄膜、金屬箔等。該系統(tǒng)通常由放卷裝置、收卷裝置、真空腔室、濺射源、鍍膜控制系統(tǒng)等部分組成。在真空環(huán)境下，通過濺射源產生的高能粒子撞擊靶材，使靶材原子濺射出來并沉積在移動的基底上，從而形成連續(xù)的薄膜。

2. 設備應用：

· 電子領域：可用于制造柔性電子器件，如柔性顯示屏的電極、電路等。例如在可折疊手機的屏幕制造中，通過該系統(tǒng)濺射導電薄膜，實現屏幕的導電和信號傳輸功能。

· 太陽能領域：用于制備柔性太陽能電池的薄膜電極或光吸收層等。有助于提高太陽能電池的光電轉換效率和柔韌性，使其更適用于不同的應用場景，如便攜式太陽能充電設備、太陽能屋頂等。

· 光學領域：可以生產光學薄膜，如增透膜、反射膜等，應用于柔性光學元件、可穿戴光學設備等。比如在智能眼鏡的鏡片上鍍制特定的光學薄膜，改善其光學性能。

· 包裝領域：為一些特殊的包裝材料提供功能性的薄膜涂層，如阻隔膜、防靜電膜等，提升包裝材料的性能和附加值。例如在食品包裝中，使用該系統(tǒng)鍍制阻隔膜，提高包裝對氧氣、水分等的阻隔性能，延長食品的保質期。

3. 設備特點：

· 高精度鍍膜：具備精確的鍍膜控制技術，能夠實現薄膜厚度的高精度控制，保證薄膜性能的一致性和穩(wěn)定性。例如，可將薄膜厚度的誤差控制在極小范圍內，滿足對薄膜厚度精度要求較高的應用場景。

· 高生產效率：卷對卷的連續(xù)生產方式，大大提高了生產效率，能夠實現大規(guī)模的快速鍍膜生產。與傳統(tǒng)的間歇式鍍膜方式相比，在相同時間內可以處理更多的基底材料，降低生產成本。

· 良好的膜層均勻性：通過優(yōu)化的濺射源設計和先進的鍍膜工藝，確保在整個基底寬度和長度方向上都能獲得均勻的薄膜沉積。這對于需要大面積均勻薄膜的應用非常重要，如大面積的柔性顯示屏或太陽能電池板。

· 適用于多種材料：可以濺射多種不同的材料，包括常見的金屬（如銅、鋁、銀等）、合金以及一些化合物材料，滿足不同應用對薄膜材料的需求。能夠根據客戶的具體要求，選擇合適的靶材進行鍍膜，提供多樣化的薄膜性能。

· 靈活的工藝參數調節(jié)：允許用戶根據不同的產品需求，靈活地調整鍍膜工藝參數，如濺射功率、沉積速率、基底移動速度等。這使得設備能夠適應不同類型的基底材料和薄膜應用，為研發(fā)和生產提供了更大的靈活性。

· 可靠的真空系統(tǒng)：擁有高性能的真空系統(tǒng)，確保在鍍膜過程中維持穩(wěn)定的高真空環(huán)境，減少雜質和氣體對薄膜質量的影響?？煽康恼婵障到y(tǒng)有助于提高薄膜的純度和質量，降低薄膜中的缺陷密度。

4. 產品參數（以部分為例）：

以下參數僅供參考，實際參數可能因定制化需求和設備型號而有所不同。

· 基底寬度：常見的基底寬度可能在 100 毫米到 1000 毫米之間，具體取決于設備型號和應用需求。

· 最大卷徑：例如，最大卷徑可能達到 500 毫米或更大，以適應不同規(guī)模的卷狀基底材料。

· 濺射源數量和類型：可能配備多個濺射源，如直流濺射源、射頻濺射源等，數量可能為 2 - 8 個不等，具體根據鍍膜工藝和產能要求確定。

· 鍍膜速度：鍍膜速度根據不同的材料和工藝要求有所變化，一般在每分鐘幾米到幾十米的范圍內。

· 真空度：能夠達到較高的真空度，如 10^-3 帕或更高，以保證濺射過程的順利進行和薄膜質量。

· 設備尺寸：設備的外形尺寸根據其設計和產能有所不同，例如長度可能在 3 - 10 米，寬度在 1.5 - 3 米，高度在 2 - 3 米。

· 電源要求：通常需要三相交流電，電壓如 380V，頻率 50Hz，整機額定功率根據設備配置而定，可能在 20 - 100kW 之間。