高真空磁控濺射與離子束復合薄膜沉積系統(tǒng)

簡要描述：產品概述：
高真空磁控濺射與離子束復合薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結構，采用可行軟件控制系統(tǒng)。
設備用途：
用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備?？蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。

產品型號：FJL560
廠商性質：經(jīng)銷商
更新時間：2024-09-05
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1.產品概述：

高真空磁控濺射與離子束復合薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結構，采用行業(yè)先的軟件控制系統(tǒng)，用于納米單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備?？蓮V泛應用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。

2.產品工藝：

真空室結構:圓筒形上升蓋

真空室尺寸:φ550x450mm

限真空度:≤6.0E-5Pa

沉積源:磁控靶3套，φ2英寸；

四工位轉靶1套；

樣品尺寸，溫度:φ2英寸，6片。高可以到達800℃

占地面積（長x寬x高）:約3米×1.1米×2米

電控描述:全自動控制

工藝:片內膜厚均勻性：≤±3%

濺射源：考夫曼離子源 Kaufman 2套，φ2英寸

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