簡要描述:IoN系列等離子清洗去系統(tǒng)具有多種射頻電源選項,可滿足客戶的特定工藝和產量要求。 我們提供不同腔體和電極配置,最大腔體可達 1200 升。
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IoN系列等離子系統(tǒng)具有多種射頻電源選項,可滿足客戶的特定工藝和產量要求。 我們提供不同腔體和電配置,大腔體可達 1200 升。
PVA TePla 的 IoN 10Q 是一款桌式全功能射頻等離子機,可用于批量晶圓去膠和清除殘膠,為實驗室和量產使用而設計,多可處理 25片晶圓,晶圓大尺寸為 150 毫米。
PVA TePla的IoN 100-40Q是一款功能齊全的射頻等離子機,可用于批量晶圓去膠和清除殘膠,為實驗室和量產使用而設計,多可處理50片晶圓,晶圓大尺寸為200毫米。
PVA TePla 的 IoN 單片晶圓去膠機是一款功能齊全的先進射頻等離子機,可用于單片晶圓去膠和清除殘膠,為實驗室和量產使用而設計,可處理大的晶圓為200毫米。
PVA TePla 的 IoN 200 是一款功能齊全的射頻等離子機 ,可用于表面改性,設計用于實驗室和處理大型基板或大批量生產。 該機臺還為等離子增強化學氣相沉積應用提供了對應的功能。
PVA TePla 的 IoN 40 是一款功能齊全的桌式先進射頻等離子機,可用于表面改性,為實驗室和量產使用而設計,適用于處理較小的基板或中小產量。該機臺還為等離子增強化學氣相沉積應用提供了對應的功能。
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