超快速、高精度空間原子層沉積鍍膜

Beneq C2R 是我們集群兼容設備系列的空間 ALD 成員。

Beneq C2R 將等離子體增強原子層沉積 （PEALD） 工藝提升到一個全新的水平 – PEALD 可用于大批量生產(chǎn)。由于采用等離子體增強旋轉(zhuǎn)原子層沉積工藝，Beneq C2R 是厚原子層沉積膜的理想選擇，甚至可達幾微米。

Beneq C2R 為光學鍍膜和阻隔層等工業(yè)應用中的高性能原子層沉積 （ALD） 提供最佳解決方案。

當速度、成本、低工藝溫度和盡可能高的薄膜質(zhì)量是驅(qū)動因素時，Beneq C2R 是理想的產(chǎn)品。

技術(shù)亮點

• 超高沉積速率，高達每小時幾微米

• 批量 PEALD 工藝，適用于多達 7 個 200 mm 晶圓

• 適用于厚度達 30 mm 的鏡頭和其他 3D 基板

• 膜厚均勻性高，適用于要求苛刻的光學鍍膜應用

• 可配備負載鎖或晶圓自動化。

自動化選項

Beneq C2R 具有基于 Brooks Automation 值得信賴的 MX400 傳輸模塊的自動化選項。自動化服務包括：

• Brooks MX400 基于集群的模塊

• 雙臂掃地機器人

• 樣品對準器

• 可選預熱和冷卻