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高真空電子束及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

簡要描述:產(chǎn)品概述:
高真空電子束及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱阻蒸發(fā)組件、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、安裝機臺及電控系統(tǒng)等部分組成,自動控制軟件系統(tǒng)。
設(shè)備用途:
電子束蒸發(fā)可以蒸發(fā)高熔點材料,比一般電阻加熱蒸發(fā)熱效率高、 束流密度大、蒸發(fā)速度快,制成的薄膜純度高、質(zhì)量好,厚度可以較準確地控制,可以廣泛應(yīng)用于制備高純薄膜和導(dǎo)電玻璃等各種光學材料薄膜。

  • 產(chǎn)品型號:DZS500
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時間:2024-09-04
  • 訪  問  量: 195

詳細介紹

1. 產(chǎn)品概述:

主要由蒸發(fā)真空室、e 型電子槍、熱阻蒸發(fā)組件、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、安裝機臺及電控系統(tǒng)等部分組成,具備自動控制軟件系統(tǒng)。

2. 設(shè)備用途/原理

沈陽科儀 DZS500 系統(tǒng)用途廣泛。電子束蒸發(fā)可以蒸發(fā)高熔點材料,比一般電阻加熱蒸發(fā)熱效率高、束流密度大、蒸發(fā)速度快,制成的薄膜純度高、質(zhì)量好,厚度可以較準確地控制,可以廣泛應(yīng)用于制備高純薄膜和導(dǎo)電玻璃等各種光學材料薄膜。在科研領(lǐng)域,它常用于材料研究和新型器件的開發(fā);在工業(yè)生產(chǎn)中,可用于大規(guī)模制造高質(zhì)量的薄膜產(chǎn)品。例如,在制造液晶顯示器的導(dǎo)電薄膜時,能夠保證薄膜的導(dǎo)電性和均勻性,提高產(chǎn)品的性能和質(zhì)量。

3. 特色參數(shù)

真空室結(jié)構(gòu):采用 U 形前開門。

真空室尺寸500x500x600mm。

極限真空度≤6.67e-5Pa。

沉積源4 個 11cc 坩堝。

樣品尺寸與溫度:可放置 φ4 英寸的 1 片樣品,最高溫度可達 800℃。

占地面積:約 2.7 米 x1.7 米 x2.1 米。

電控描述:全自動。

工藝:片內(nèi)膜厚均勻性≤±3%。

特色參數(shù):樣品可自轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速可調(diào)。

4. 設(shè)備特點

沈陽科儀 DZS500 系統(tǒng)的真空室具有一些顯著特點。其極限真空度表現(xiàn)出色,通常能夠達到≤6.67×10?? Pa(經(jīng)烘烤除氣后)。停泵關(guān)機 12 小時后,蒸發(fā)室真空度≤5Pa,這表明其真空保持能力較強。真空室的結(jié)構(gòu)通常為 U 形前開門,尺寸一般為 500×500×600mm。這種設(shè)計不僅方便操作,還有利于維持真空環(huán)境的穩(wěn)定性。在實際應(yīng)用中,良好的真空室特點能夠為薄膜沉積提供高質(zhì)量的真空條件,減少雜質(zhì)和氣體對薄膜質(zhì)量的影響。比如在制備高精度光學薄膜時,穩(wěn)定的真空環(huán)境能夠確保薄膜的均勻性和純度。


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