當前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 半導體前道工藝設備 > 1 光刻設備 > DWL 2000 GS / DWL 4000 GS激光光刻機.
簡要描述:DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對工業(yè)級灰度光刻進行了優(yōu)化,設計用于集成電路、MEMS、微光學和微流體器件、傳感器、全息圖防偽特征的掩模和晶圓的高通量圖案化。
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1. 產(chǎn)品概述
MPO 100是海德堡儀器推出的一款先進多用戶工具,專門為復雜微結(jié)構(gòu)的3D光刻和3D顯微打印而設計。作為一款頂尖的設備,MPO 100采用了先進的雙光子聚合(TPP)技術(shù),這一技術(shù)在微光學、光子學、微力學以及生物醫(yī)學工程等多個領域的應用中表現(xiàn)出色,推動了這些領域的技術(shù)進步和創(chuàng)新。
MPO 100所提供的多功能平臺,使其在精度和生產(chǎn)效率方面達到一定水平。它能夠在單一高效的工藝步驟中,快速而準確地生產(chǎn)出復雜的功能性微結(jié)構(gòu)。這一特性尤其適用于需要精細設計和高可靠性的應用,如高性能光學元件、微流體器件以及生物傳感器等,滿足市場對高精度和高效能的需求。
MPO 100的靈活性使得它可以適應多種材料和設計需求,支持不同用戶的應用。此外,該設備的高吞吐量確保了生產(chǎn)效率,使得科研人員和工程師能夠在短時間內(nèi)進行多次實驗和迭代,從而加速產(chǎn)品開發(fā)和技術(shù)驗證。
2. 主要特點
高精度和高吞吐量:以低至 100 nm 的小特征尺寸實現(xiàn)精度。受益于掃描速度超過 1000 mm/s 的高速 3D 打印以及體素調(diào)優(yōu)。
多種材料兼容性:利用 522 nm 的強大飛激光系統(tǒng)高效處理各種聚合物。利用經(jīng)過行業(yè)驗證的ORMOCER®雜化聚合物,具有的光學、機械和化學性能。
免拼接微光學元件:通過無限視場 (IFoV) 制造模式,無需拼接即可創(chuàng)建精確的微光學元件。
模塊化3D打印平臺:在 3D 光刻和 3D 顯微打印之間無縫切換,具有特定于應用的寫入模式和基板支架。制造高度超過 1 cm 的宏觀結(jié)構(gòu)和表面粗糙度低至 10 nm 的微觀結(jié)構(gòu)。
體素調(diào)優(yōu)功能:在掃描過程中對體素尺寸進行微調(diào),以減少所需的層數(shù)。
3. 應用
微光學:無需拼接即可創(chuàng)建高精度微光學元件,確保無縫集成。
光子學:將光子器件直接寫入基板上,從而優(yōu)化器件性能和集成度。
細觀力學:生產(chǎn)具有高精度和可靠性的復雜微機械結(jié)構(gòu)。
生物醫(yī)學工程:制造針對特定應用量身定制的復雜生物醫(yī)學設備和支架。
量子器件:開發(fā)高精度和定制化的先進量子器件,用于沿研究和應用。
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