當前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 半導體前道工藝設(shè)備 > 5 刻蝕設(shè)備 > NMC 612G12英寸金屬刻蝕機
簡要描述:NMC 612G 12英寸金屬刻蝕機,可用于鋁、硅,氧化物、鉬、氧化銦錫等多種材料刻蝕。
產(chǎn)品分類
Product Category相關(guān)文章
Related Articles詳細介紹
1. 產(chǎn)品概述
NMC 612G 12英寸金屬刻蝕機,可用于鋁、硅,氧化物、鉬、氧化銦錫等多種材料刻蝕。
2. 設(shè)備用途/原理
NMC 612G 12英寸金屬刻蝕機,可用于鋁、硅,氧化物、鉬、氧化銦錫等多種材料刻蝕,高性能靜電卡盤,可用于 Si wafer 及玻璃片穩(wěn)定吸附,設(shè)備提供多種均勻性調(diào)節(jié)手段。本土化服務(wù)及定制化軟件配置能力。
3. 設(shè)備特點
晶圓尺寸 12英寸,適用材料 鋁、硅、氧化物、鉬、氧化銦錫,適用工藝 鋁線、鋁墊、硅、介質(zhì)刻蝕、鋁 / 鉬 /ITO 等金屬刻蝕,適用域 新興應用、集成電路。百科:?半導體金屬刻蝕機的原理?主要涉及到濕法刻蝕和干法刻蝕兩種技術(shù)。這兩種技術(shù)都是半導體制造工藝中非常重要的步驟,用于有選擇地從硅片表面去除不需要的材料,以達到在涂膠的硅片上正確地復制掩模圖形的目的。
產(chǎn)品咨詢