一、產(chǎn)品概述：

Nikon S207D 掃描式光刻機(jī)是一款專為半導(dǎo)體制造設(shè)計(jì)的高性能設(shè)備，支持 200mm 晶圓的生產(chǎn)。該機(jī)型采用先進(jìn)的掃描光刻技術(shù)，能夠?qū)崿F(xiàn)高分辨率和高精度的圖案轉(zhuǎn)移，適用于集成電路、微處理器和存儲(chǔ)器等電子元件的制造。憑借其快速的曝光速度和穩(wěn)定的性能，S207D 非常適合大批量生產(chǎn)，同時(shí)用戶友好的操作界面和自動(dòng)化功能使得操作簡(jiǎn)單高效。這些特點(diǎn)使得 Nikon S207D 成為現(xiàn)代半導(dǎo)體制造過(guò)程中的重要工具，滿足行業(yè)對(duì)高質(zhì)量和高效率的需求。

二、設(shè)備用途/原理：

該設(shè)備通過(guò)高強(qiáng)度光源將掩模上的圖案投影到涂有光刻膠的晶圓表面。工作過(guò)程中，光源發(fā)出特定波長(zhǎng)的光線，通過(guò)高分辨率光學(xué)系統(tǒng)，精準(zhǔn)地掃描掩模并將圖案投影到晶圓上。曝光后，光刻膠的化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化，接著進(jìn)行顯影，去除未曝光或已曝光的光刻膠，形成所需的圖案。隨后，利用刻蝕工藝將圖案轉(zhuǎn)移到晶圓材料上，最后去除殘留的光刻膠。通過(guò)這一系列步驟，Nikon S207D 能夠高效地實(shí)現(xiàn)復(fù)雜圖形的精確轉(zhuǎn)移，滿足現(xiàn)代半導(dǎo)體制造的高標(biāo)準(zhǔn)需求。

三、主要技術(shù)指標(biāo)：

四、設(shè)備特點(diǎn)

Nikon S207D掃描式光刻機(jī)

光源波長(zhǎng)248nm

分辨率優(yōu)于0.11µm

主要用于8寸及12寸生產(chǎn)線

廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等