国产三级电影在线观看,国产成人综合一区二区三区,91福利视频导航,免费无码在线观看

歡迎來到深圳市矢量科學儀器有限公司網(wǎng)站!
咨詢熱線

當前位置:首頁  >  產(chǎn)品中心  >  二手翻新設備  >  1 光刻機  >  Nikon SF120/130步進式光刻機

步進式光刻機

簡要描述:1、Nikon SF120/130步進式光刻機
光源波長365nm
分辨率優(yōu)于0.28µm
主要用于6寸、8寸及12寸生產(chǎn)線
廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等領域
2、產(chǎn)品詳情
主要技術指標
分辨率0.28µm
N.A.0.62
曝光光源365nm
倍率4:1
最大曝光現(xiàn)場25mm*33mm
對準精度LSA:40nm
FIA:45nm

  • 產(chǎn)品型號:Nikon SF120/130
  • 廠商性質:經(jīng)銷商
  • 更新時間:2024-09-04
  • 訪  問  量: 539

產(chǎn)品分類

Product Category

相關文章

Related Articles

詳細介紹

一、產(chǎn)品概述:

Nikon SF120/130 步進式光刻機是一款高精度的半導體制造設備,專為 200mm 晶圓的生產(chǎn)而設計。該機型采用先進的步進光刻技術,能夠實現(xiàn)高分辨率和高精度的圖案轉移,廣泛應用于集成電路(IC)、微處理器和存儲器等電子元件的制造。憑借其良好的成像質量和快速的曝光速度,NSR 2205i14E 非常適合大批量生產(chǎn),同時其用戶友好的操作界面和高效的自動化功能提升了生產(chǎn)效率。這使得 Nikon NSR 2205i14E 成為現(xiàn)代半導體制造過程中的重要工具,滿足行業(yè)對高質量和高效率的需求。

二、設備用途/原理:

該設備利用高強度光源將掩模上的圖案逐步投影到涂有光刻膠的晶圓表面。光源發(fā)出特定波長的光線,通過高分辨率光學系統(tǒng),將掩模圖案精確地投影到晶圓上進行曝光。曝光后,光刻膠的化學性質發(fā)生變化,接著進行顯影,去除未曝光或已曝光的光刻膠,形成所需的圖案。隨后,利用刻蝕工藝將圖案轉移到晶圓材料上,最后去除殘留的光刻膠。通過這一系列步驟,Nikon SF120/130 能夠高效地實現(xiàn)復雜圖形的精確轉移,滿足現(xiàn)代半導體制造的高標準要求。

三、主要技術指標:

分辨率

0.28µm

N.A.

0.62

曝光光源

365nm

倍率

4:1

大曝光現(xiàn)場

25mm*33mm

對準精度

LSA40nm

FIA45nm

四、設備特點

Nikon SF120/130步進式光刻機

光源波長365nm

分辨率優(yōu)于0.28µm

主要用于6寸、8寸及12寸生產(chǎn)線

廣泛應用于化合物半導體、MEMSLED


產(chǎn)品咨詢

留言框

  • 產(chǎn)品:

  • 您的單位:

  • 您的姓名:

  • 聯(lián)系電話:

  • 常用郵箱:

  • 省份:

  • 詳細地址:

  • 補充說明:

  • 驗證碼:

    請輸入計算結果(填寫阿拉伯數(shù)字),如:三加四=7