當前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 半導體前道工藝設備 > 1 光刻設備 > CPC15/35/80/120/150CIF 生產(chǎn)型等離子清洗機
簡要描述:CIF 生產(chǎn)型等離子清洗機是為研發(fā)型客戶和工業(yè)級客戶而設計的等離子體表面處理設備,配置豐富,且真空腔體里可分層,適合大多數(shù)生產(chǎn)場景。適用于等離子清洗,活化以及刻蝕等多種應用,設備可在嚴苛環(huán)境下穩(wěn)定運行,產(chǎn)品性能穩(wěn)定,樣品處理重復性、一致性好。
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一、CIF 生產(chǎn)型等離子清洗機 產(chǎn)品介紹
CIF推出的CPC系列生產(chǎn)型等離子清洗機是為研發(fā)型客戶和工業(yè)級客戶而設計的等離子體表面處理設備,配置豐富,且真空腔體里可分層,適合大多數(shù)生產(chǎn)場景。適用于等離子清洗,活化以及刻蝕等多種應用,設備可在嚴苛環(huán)境下穩(wěn)定運行,產(chǎn)品性能穩(wěn)定,樣品處理重復性、一致性好。
二、CIF 生產(chǎn)型等離子清洗機 產(chǎn)品特點
1. 7寸彩色觸摸屏互動操作界面,圖形化用戶操作界面顯示,自動監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài),0~99個配方程序,可存儲、輸出、追溯工藝數(shù)據(jù),機器運行、停止提示。
2. PLC工控機控制整個清洗過程,手動、自動兩種工作模式。
3. 采用質(zhì)量流量計,氣體流量控制更準確。標配雙路氣體輸送系統(tǒng),可選多氣路氣體輸送系統(tǒng),氣體分配均勻。可輸入氧氣、氬氣、氮氣、四氟化碳、氫氣或混合氣體等氣體。
4. 采用花灑式多孔進氣方式,改變傳統(tǒng)等離子清洗機單孔進氣不均勻問題。
5. HEPA高效過濾,氣體返填吹掃,防止二次污染。
6. 316不銹鋼真空倉,潔凈無污染。
7. 全真空管路系統(tǒng)采用316不銹鋼材質(zhì)。
8. 處理高效均勻,效率高,工藝重復性好。
9. 合理的結(jié)構(gòu)設計,設備占用空間小。
10. 可處理各種材質(zhì)、形狀、尺寸樣品。
11. 樣品處理溫度低,無熱損傷和熱氧化。
12. 使用成本低、耗損小。
13. 產(chǎn)品性能穩(wěn)定,安裝與維護,簡便方便。
14. 安全保護,倉門打開,自動關(guān)閉電源。
三、技術(shù)參數(shù)
型號 | CPC15 | CPC35 | CPC80 | CPC120 | CPC150 |
艙體尺寸 | W240xH240xD260mm | W320xH320xD350mm | W420xH400xD500mm | W500xH500xD450mm | W500xH500xD600mm |
艙體容積 | 15L | 35L | 80L | 120L | 150L |
有效尺寸 | W210xD245mm | W300xD335mm | W400xD490mm | W500xxD440mm | W500xxD590mm |
電極分布 | 2層 | 3-4層 | 6層 | 8-10層 | 10-15層 |
射頻電源 | 13.56MHz, 0-300W | 13.56MHz, 0-300W | 13.56MHz,0-600W | 13.56MHz,0-1000W | 13.56MHz,0-1000W |
匹配器 | 自動匹配器 | ||||
激發(fā)方式 | 電容式 | ||||
電 流 | 1.2A | ||||
時間設定 | 1-99分59秒 | ||||
氣體穩(wěn)定時間 | 1分鐘 | ||||
真空度 | 100pa以內(nèi) | ||||
控制系統(tǒng) | 7寸PLC觸摸屏控制 | ||||
工藝氣體 | 2氣路 MFC(可選裝3路) | ||||
真空泵 | 抽速約8m3/h | 抽速16m3/h | 抽速40m3/h | 抽速60m3/h | 抽速約60m3/h |
電 源 | AC220V 50-60Hz | AC220V 50-60Hz | AC380V 50-60Hz | AC380V 50-60Hz | AC380V 50-60Hz |
備注:根據(jù)用戶要求,可選中頻電源40KHz,功率300-2000W。
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