一、產(chǎn)品概述：

研磨拋光機是一種用于材料表面處理的設(shè)備，能夠通過研磨和拋光過程提升樣品表面的光滑度和光澤度。該儀器廣泛應(yīng)用于金屬、陶瓷、玻璃和半導(dǎo)體等材料的加工和制備。

二、設(shè)備用途/原理：

·設(shè)備用途

研磨拋光機主要用于樣品的表面準(zhǔn)備和處理，以滿足顯微鏡觀察、材料測試和光學(xué)應(yīng)用的要求。工程師和技術(shù)人員可以利用該設(shè)備去除表面缺陷，改善材料的表面質(zhì)量，以確保后續(xù)測試的準(zhǔn)確性和可靠性。

·工作原理

研磨拋光機通過使用特定粒度的研磨材料在樣品表面施加壓力，逐步去除表面層以實現(xiàn)平整化。設(shè)備通常配備可調(diào)速的轉(zhuǎn)盤和不同類型的拋光墊，能夠適應(yīng)各種材料和處理需求。用戶可以根據(jù)樣品性質(zhì)和處理要求選擇合適的研磨和拋光工藝，以達到所需的表面平滑度和光澤。

三、主要技術(shù)指標(biāo)：

1. 機器電源：100~240VAC, 50/60Hz, 單相

2. 電機功率 ：1Hp [750W]

3. 盤直徑：8in [203mm], 10in [254mm]

4. 磨盤轉(zhuǎn)速：10~500rpm，調(diào)整增量 10rpm

5. 磨盤轉(zhuǎn)向：順時針或逆時針

6. 供水管：外徑 0.25in [6mm]

7. 供水壓力：40~100psi [25-60bar]